李兴没有说大话，第二天他就拿着一份方案找到了郑南。

“郑厂长，我认为现在无法推进更高制程的主要原因，除了一个是光刻技巧外，还有更重要一点就是无法制作相应的光掩模。”

接触式光刻的原理就是用光这把刻刀透过光掩模这块遮光板，把想要的芯片图案1:1等比例投射在下面的硅片上。

也就是说下面芯片能做出多精细的制程，首先得取决于你能做出多少的光掩模，你不可能拿一张一毫米的光掩模做出10微米的芯片来，相反你要是能拿出......